出货量高 至纯科技：旗下所有28nm节点湿法工艺设备已认证完毕

　　国内半导体设备厂商至纯科技表示，目前至纯科技 28nm 节点全部湿法工艺设备已认证完毕。

　　IT之家了解到，芯片制造分为逻辑芯片设计、芯片代工、封装测试三大环节。其中芯片代工包括晶圆制造、曝光、刻蚀、清洗等流程。湿法清洗设备属于半导体供给链中的清洗环节，清洗是根据不同芯片制程工艺的需求，来对硅晶圆表面进行无损伤清洗，对芯片制造过程中残留的颗粒、曝光、刻蚀制程形成的自然氧化层以及金属污染、有机物、抛光残留物等杂质进行清理。清洗环节占芯片制造工艺步骤的 30% 以上，在芯片制造工艺步骤中，清洗环节所占的比例是最大的。

　　至纯科技表示，国内目前有三家在湿法工艺设备端提供中高阶湿法制程设备，分别是至纯科技、北方华创和盛美，国内厂商的市场占比在逐年上升中。

　　资料显示，至纯科技成立于 2000 年，主营业务为高纯工艺系统的研发、生产和销售;半导体湿法清洗设备研发、生产和销售;光传感应用及相关光学元器件的研发、生产和销售。财报显示，至纯科技 2020 年湿法设备出货量超过 30 台，新增订单 5.3 亿元，增长 211.8%。

　　除了 28nm 工艺节点之外，上海证券报的报道中还指出，至纯科技 14nm 及 7nm 工艺预计 2022 年可供客户验证，客户包括中芯国际、华虹集团、长鑫存储、华为等行业领先者。

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